Hitachi công bố công nghệ phát hiện khiếm khuyết dưới 10nm trong sản xuất chip

[Cao Tùng]

Hitachi đã phát triển một công nghệ xử lý hình ảnh để kiểm tra các khuyết tật siêu nhỏ 10nm hoặc nhỏ hơn trong quy trình sản xuất chất bán dẫn với độ nhạy cao. Công nghệ này đã được công bố tại sự kiện "SPIE Advanced Lithography + Patterning 2025" được tổ chức từ ngày 23 đến ngày 27/2. Trong bối cảnh nhu cầu về các thiết bị bán dẫn hiệu suất cao ngày càng tăng, tầm quan trọng của việc quản lý chất lượng ngày càng tăng. Đặc biệt, do kích thước của các khuyết tật ảnh hưởng trực...

Đọc bài gốc tại đây