Đoạn Video
Ảnh
Trương Cẩm Tú
Guest
Trung Quốc đang đầu tư rất mạnh để tự chủ thiết bị sản xuất chip, nhưng khoảng cách với ASML trong công nghệ quang khắc tiên tiến nhất vẫn còn rất lớn. Theo một báo cáo mới của Ngân hàng đầu tư Mỹ UBS, nếu không xuất hiện những thay đổi lớn về công nghệ hoặc chính sách, Trung Quốc khó có thể chế tạo được máy quang khắc EUV đủ khả năng thương mại hóa trong vòng 10 năm tới. UBS đưa ra nhận định này sau khi phân tích bằng sáng chế, dữ liệu doanh nghiệp và quá trình phát triển của ngành. Theo ngân hàng này, xét riêng về hoạt động nghiên cứu và phát triển thể hiện qua bằng sáng chế, trình độ EUV hiện nay của Trung Quốc có nhiều điểm tương đồng với ASML vào khoảng năm 2004. Đây là một khoảng cách đáng kể. Vào giai đoạn 2003-2004, ASML mới tiến hành thử nghiệm các hệ thống EUV, nghiên cứu nguồn sáng plasma, gương phản xạ siêu chính xác và giải quyết hàng loạt vấn đề để hệ thống có thể hoạt động ổn định. Phải nhiều năm sau EUV mới thực sự bước vào...
Đọc bài gốc tại đây
